фон

Рентгеноструктурный анализ с параллельными лучами

2024-01-12 10:00

Параллельный лучДифракция рентгеновского излученияДля анализа можно использовать мультикапиллярный коллимирующий оптический кристалл для формирования параллельного возбуждаемого пучка рентгеновских лучей высокой интенсивности, что приводит к очень высокой интенсивности рентгеновских лучей на поверхности образца. Определение дифракции рентгеновских лучей:

X-ray

Для геометрии параллельного луча положение образца может меняться, и система рентгеноструктурный анализ больше не ограничена необходимостью делать расстояние между источником рентгеновского излучения и образцом равным расстоянию между образцом и детектором. Гибкость геометрии может быть адаптирована к существующим условиям производства и может использоваться для более широкого диапазона форм и размеров образцов. Параллельный лучрентгеноструктурный анализне только нечувствителен к ошибкам, связанным со смещением образца; Практически все другие известные инструментальные функции ошибок также исключены.


Рентгенографический анализ с параллельным лучом с использованиемРентгеновскийОптические кристаллы успешно применяются для анализа тонких пленок и оценки текстуры образцов.



Получить последнюю цену? Мы ответим как можно скорее (в течение 12 часов)
This field is required
This field is required
Required and valid email address
This field is required
This field is required