- дома
- >
Hовости
Параллельное оптическое устройство для измерения пленок — это специализированный компонент, используемый в рентгеновских дифрактометрах, в основном для повышения интенсивности сигнала и точности обнаружения образцов тонких пленок. 1.Основные функции параллельных оптических измерительных принадлежностей для плёнки Подавление помех рассеяния: за счет увеличения длины решетки происходит фильтрация большего количества рассеянных лучей, что снижает влияние сигнала подложки на результаты дифракции тонкой пленки и, таким образом, повышает силу сигнала тонкой пленки. Повышение точности анализа тонких пленок: подходит для испытания толщины и других сценариев использования нанослойных тонких пленок, в сочетании с насадками для малоугловой дифракции можно проводить анализ малоугловой дифракции в диапазоне 0°~5°. 2. Конструктивные характеристики параллельных оптических измерительных плёночных приспособлений Конструкция решетки: за счет увеличения длины решетки оптимизируется путь рентгеновских лучей, повышается фильтрующая способность рассеянных лучей и обеспечивается чистота сигнала дифракции тонкой пленки. 3. Область применения параллельного оптического измерительного устройства для плёнки Исследования тонкопленочных материалов: анализ кристаллической структуры наномногослойных пленок и сверхтонких пленок. Испытания полупроводников и покрытий: используются для оценки однородности, кристаллического качества и других характеристик тонких пленок. 4. Совместимое оборудование для параллельного оптического измерения пленки Эту насадку можно адаптировать к различным моделям рентгеновских дифрактометров, включая: Рентгеновский дифрактометр ТД-3500 Рентгеновский монокристаллический дифрактометр ТД-5000 Высокоразрешающий рентгеновский дифрактометр ТД-3700 Настольный рентгеновский дифрактометр ТДМ-20 В целом, параллельное оптическое измерительное устройство для пленок значительно улучшает качество дифракционного сигнала образцов тонких пленок за счет структурной оптимизации и подавления рассеяния и широко используется в материаловедении, производстве полупроводников и других областях, особенно подходит для высокоточного анализа тонких пленок в наномасштабе.